根据薄膜对X射线的吸收效应, 利用X射线衍射方法可测量出多晶基材表面的薄膜厚度。但试验结果显示, 基材的择优取向效应对薄膜厚度的测量影响显著。根据理论分析, 提出了择优取向修正方法。在对X射线衍射数据进行择优取向修正后, 利用最小二乘法对修正后的数据进行拟合。拟合结果显示, 该方法可以有效地对基材的择优取向效应进行修正, 从而获得较为准确的薄膜厚度值。

所属栏目

试验研究国防基础科研课题资助项目(A1520070073)

收稿日期

2008/10/14

作者单位

张延志:表面物理与化学国家重点实验室, 绵阳 621907
赖新春:表面物理与化学国家重点实验室, 绵阳 621907
管卫军:表面物理与化学国家重点实验室, 绵阳 621907
王勤国:表面物理与化学国家重点实验室, 绵阳 621907

备注

张延志(1977-), 男, 硕士, 从事X射线衍射分析与研究。

引用该论文:

ZHANG Yan-Zhi,LAI Xin-Chun,GUAN Wei-Jun,WANG Qin-Guo.Thickness Measurement of Thin Film on Polycrystalline Preferred Orientation Material by X-Ray Diffraction[J].Nondestructive Testing,2009,31(8):628～630
张延志,赖新春,管卫军,王勤国.具有择优取向性的基材表面的薄膜厚度的X射线衍射测量修正[J].无损检测,2009,31(8):628～630

参考文献

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