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溅射气压和衬底温度对Si1-xGex薄膜结构和光吸收性能的影响
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  • 更新时间:

    2011-02-01

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资料简介

采用射频磁控溅射法沉积了Si1-xGex薄膜, 研究了溅射气压、衬底温度对薄膜结构、厚度、表面形貌、表面成分及光吸收性能的影响。结果表明: 薄膜均为微晶结构且相组成不随溅射气压和衬底温度的改变而改变; 随着溅射气压升高, 薄膜结晶性能降低, 升高衬底温度使其结晶性能提高; 随气压或温度的升高, 薄膜厚度均先增大后减小, 在1.0 Pa或400 ℃达到最大值; 随温度的升高, 薄膜表面团簇现象消失并变得平整致密, 气压为8.0 Pa时, 表面有孔洞和沟道; 随气压升高, 薄膜中锗含量降低, 光吸收强度减小, 光学带隙增大; 衬底温度的变化对光学带隙影响不大。

所属栏目

试验研究江苏省自然科学基金资助项目(SBK200922430); 国家大学生创新性实验计划资助项目(101028727)

收稿日期

2011/2/12011/8/2

作者单位

刘亚妮:南京航空航天大学材料科学与技术学院, 南京 210016
余乐:南京航空航天大学材料科学与技术学院, 南京 210016
李子全:南京航空航天大学材料科学与技术学院, 南京 210016
刘劲松:南京航空航天大学材料科学与技术学院, 南京 210016
曹安:南京航空航天大学材料科学与技术学院, 南京 210016
蒋维娜:南京航空航天大学材料科学与技术学院, 南京 210016
刘建宁:南京航空航天大学材料科学与技术学院, 南京 210016

备注

刘亚妮(1986-), 女, 山西运城人, 硕士研究生。

引用该论文:

刘亚妮,余乐,李子全,刘劲松,曹安,蒋维娜,刘建宁.Effects of Sputtering Pressure and Substrate Temperature on Structure and Optical Absorption Properties of Si1-xGex Thin Films[J].Materials for mechancial engineering,2012,36(2):32~36
刘亚妮,余乐,李子全,刘劲松,曹安,蒋维娜,刘建宁.溅射气压和衬底温度对Si1-xGex薄膜结构和光吸收性能的影响[J].机械工程材料,2012,36(2):32~36


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【关键词】 Si1-xGex薄膜 溅射气压 衬底温度 光吸收强度  刘亚妮 余乐 李子全 刘劲松 曹安 蒋维娜 刘建宁

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