采用传统陶瓷烧结工艺, 制备了直径为50 mm、厚度为3 mm的Bi2O3陶瓷靶, 利用该陶瓷靶和射频磁控溅射技术在Si(111)基体上制备了氧化铋薄膜, 研究了溅射压力为0.8 Pa时的氧分压对薄膜物相的影响, 并探讨了退火温度(350～550 ℃)对薄膜的物相和表面形貌的影响。结果表明: 随着氧分压从0增大到0.36 Pa, 薄膜由BiO相逐渐变成α-Bi2O3相; 随着退火温度的升高, 薄膜中出现了新的物相, 仍为多相结构, 不同相的衍射峰半高宽变化有增有减; 薄膜的晶粒尺寸随退火温度的升高而增大。

所属栏目

试验研究江苏省六大人才高峰基金资助项目(2010-JXQC069); 江苏大学高级人才基金资助项目(10JDG061)

收稿日期

2012/2/222012/10/1

作者单位

陈瑞芳:江苏大学 机械工程学院, 镇江 212013
徐瑞丽:江苏大学 机械工程学院, 镇江 212013
刘海霞:江苏大学 材料科学与工程学院, 镇江 212013
花银群:江苏大学 材料科学与工程学院, 镇江 212013
崔晓:江苏大学 材料科学与工程学院, 镇江 212013

备注

陈瑞芳(1968-), 女, 湖南长沙人, 教授, 博士。

引用该论文:

CHEN Rui-fang,XU Rui-li,LIU Hai-xia,HUA Yin-qun,CUI Xiao.Preparation of Bismuth Oxide Films and Effects of Annealing Temperature on Phase and Surface Morphology[J].Materials for mechancial engineering,2013,37(2):13～16
陈瑞芳,徐瑞丽,刘海霞,花银群,崔晓.氧化铋薄膜的制备及退火温度对其物相和表面形貌的影响[J].机械工程材料,2013,37(2):13～16

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