采用热丝CVD法制备的大面积金刚石薄膜存在基片变形严重的问题, 通过对热丝CVD设备和沉积工艺进行改进, 成功解决了直径76 mm、厚度0.4 mm硅片的变形问题。结果表明: 改进后金刚石薄膜基片的翘曲度为0.296%, 比改进前的降低了88.9%; 改进后金刚石薄膜的质量及晶粒大小均匀, 膜厚不均匀度仅为1.53%, 具有优异的大面积均匀性。

所属栏目

收稿日期

2010/7/282011/2/14

作者单位

陈峰武:湖南大学材料科学与工程学院, 长沙 410082
周灵平:湖南大学材料科学与工程学院, 长沙 410082
朱家俊:湖南大学材料科学与工程学院, 长沙 410082
李德意:湖南大学材料科学与工程学院, 长沙 410082
彭坤:湖南大学材料科学与工程学院, 长沙 410082
李绍禄:湖南大学材料科学与工程学院, 长沙 410082

备注

陈峰武(1984-), 男, 湖南岳阳人, 硕士研究生。

引用该论文:

CHEN Feng-wu,ZHOU Ling-ping,ZHU Jia-jun,LI De-yi,PENG Kun,LI Shao-lu.Deformation of Large Area Diamond Thin Film Substrate Prepared by Hot Filament CVD Method[J].Materials for mechancial engineering,2011,35(7):35～38
陈峰武,周灵平,朱家俊,李德意,彭坤,李绍禄.热丝CVD法制备大面积金刚石薄膜基片的变形[J].机械工程材料,2011,35(7):35～38

被引情况:

【1】

向道辉,张 磊,张玉龙,马国峰,周直昆,秦 强, "金刚石涂层硬质合金阶梯刀具的制备及钻削特性",机械工程材料 40, 46-50(2016)
参考文献

【1】

吕反修.CVD金刚石膜新兴研究方向及市场现状与趋势[J].金属热处理, 2008, 33(11): 1-5.

【2】

JERRY W Z, GERRY C, TARUN S. Wide area polycrysta-lline diamond coating and stress control by sp3 hot filament CVD reactor[J].Thin Solid Films, 2008, 516: 696-699.

【3】

KING D, YRAN M K, SCHUELKE T, et al. Scaling the microwave plasma-assisted chemical vapor diamond deposition process to 150-200 mm substrates[J].Diamond and Related Materials, 2008, 17(4/5): 520-524.

【4】

LU F X, TANG W Z, HUANG T B, et al. Large area high quality diamond film deposition by high power DC arc plasma jet operating at gas recycling mode[J].Diamond and Related Materials, 2001, 10(9/10): 1551-1558.

【5】

张玉军, 吕反修, 张建军, 等.声表面波器件金刚石薄膜基片的制备工艺[J].北京科技大学学报, 2008, 30(5): 544-547.